Das Auftragen extrem dünner gleichmäßiger Silikonoxidfilme auf einer Oberfläche gestaltet sich mittels des Plasmaverfahrens sehr einfach. Der Prozess wird bei Fast-Raumtemperatur durchgeführt und benötigt weder Pumpen noch Vakuumbehälter. 3D-Teile sind bei entsprechender Handhabung einfach zu bearbeiten.

Die Durchführung ist schnell und kosteneffizient.

Silikonoxidschichten werden bei Temperaturen unter 100°C aufgetragen. Ihre optischen Eigenschaften sind denen des Quarzpulvers sehr ähnlich. Hitzeempfindliche Polymere oder Gewebe können problemlos bearbeitet werden.

Es existieren zahlreiche neuartige Anwendungen auf dem Gebiet der optischen Komponenten, Spiegel, Teleskope und Fotoelemente.

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